武汉TCL集团工业研究院有限公司胡锦丽获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉TCL集团工业研究院有限公司申请的专利一种光轴偏差测量方法、智能终端及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114677285B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011547034.4，技术领域涉及：G06T7/80；该发明授权一种光轴偏差测量方法、智能终端及计算机可读存储介质是由胡锦丽;刘阳兴设计研发完成，并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光轴偏差测量方法、智能终端及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光轴偏差测量方法、智能终端及计算机可读存储介质，所述方法包括：获取针对同一场景拍摄的第一图像和第二图像；根据所述第一图像和所述第二图像，计算与所述第一图像和所述第二图像对应的目标本征矩阵；根据所述目标本征矩阵，计算对应的光轴偏差值。本发明能够提高计算光轴偏差值的速率和便捷性。
本发明授权一种光轴偏差测量方法、智能终端及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光轴偏差测量方法，其特征在于，所述光轴偏差测量方法具体包括： 获取针对同一场景拍摄的第一图像和第二图像； 根据所述第一图像和所述第二图像，计算对应的目标本征矩阵； 根据所述目标本征矩阵，计算与所述第一图像和所述第二图像对应的光轴偏差值； 所述根据所述第一图像和所述第二图像，计算对应的目标本征矩阵，具体包括： 提取所述第一图像中的特征点，生成第一特征点集；以及提取所述第二图像中的特征点，生成第二特征点集； 将所述第一特征点集和所述第二特征点集进行匹配，生成若干对特征点对； 根据所述特征点对，计算所述第一图像和所述第二图像之间的目标本征矩阵； 所述根据所述特征点对，计算所述第一图像和所述第二图像之间的目标本征矩阵，具体包括： 根据预设的拟合规则，对所述特征点对进行拟合计算，生成对应的第N本征矩阵和第N内点数值，其中，N为正整数且当初次进行拟合计算时，N等于1； 当所述第N内点数值大于预设的内点数阈值时，将所述第N内点数值作为内点数阈值，并将预设的迭代次数加一，其中，当初次进行拟合计算时，迭代次数为零； 迭代计算第N本征矩阵并根据第N内点数值更新所述迭代次数，直至所述迭代次数大于预设的迭代次数阈值； 确定数值最大的第N内点数值对应的本征矩阵为所述目标本征矩阵。
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