理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司;理想晶延半导体设备(浙江)有限公司刘寅获国家专利权
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龙图腾网获悉理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司;理想晶延半导体设备(浙江)有限公司申请的专利一种可调整支撑结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223983715U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-10发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520543731.4,技术领域涉及:C23C14/24;该实用新型一种可调整支撑结构是由刘寅;梁辰设计研发完成,并于2025-03-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可调整支撑结构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及蒸镀设备领域,提供一种可调整支撑结构,包括支撑座、支撑杆以及调节组件,支撑座设置于真空腔体内部;支撑杆具有转动端和调节端,转动端适于伸入真空腔体内部并转动连接支撑座,转动端上方还设有支撑滚轮,支撑滚轮适于支撑源底板组件,调节端适于设置于真空腔体外侧;调节组件移动连接支撑杆的调节端并适于驱动支撑杆绕转动端转动,进而调整转动端上支撑滚轮的高度。本申请通过调节组件驱动支撑杆绕转动端转动,进而调整转动端上支撑滚轮的高度,无需反复拆装支撑座即可快速实现支撑滚轮的高度调整,在支撑滚轮高度处于可调节范围内时,能够精准匹配源底板的支撑需求,从而显著缩短维修和安装时间,提升设备维护效率。
本实用新型一种可调整支撑结构在权利要求书中公布了:1.一种可调整支撑结构,其特征在于,包括: 支撑座,所述支撑座设置于真空腔体内部; 支撑杆,所述支撑杆具有转动端和调节端,所述转动端适于伸入真空腔体内部并转动连接所述支撑座,所述转动端上方还设有支撑滚轮,所述支撑滚轮适于支撑源底板组件,所述调节端适于设置于真空腔体外侧; 调节组件,所述调节组件移动连接所述支撑杆的所述调节端并适于驱动所述支撑杆绕所述转动端转动,进而调整所述转动端上所述支撑滚轮的高度。
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