买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉深圳市志凌伟业光电有限公司申请的专利一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117412575B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311322770.3，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法是由苏伟;罗智勇设计研发完成，并于2023-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法，该制备方法包括如下步骤：S1：透明金属网格制备；S2：MXene硫化处理；S3：MXene金属网格复合透明电磁屏蔽膜的制备；S4：复合电磁屏蔽膜后处理；本发明通过黄光减法工艺制备出透明金属铜网格，然后用MXene对金属网格进行修饰，为了改善MXene在金属铜网格上的附着力，先对MXene进行轻微硫化处理，通过Cu‑S键进行更好的附着，通过金属网格和MXene相结合，实现了复合电磁屏蔽膜在屏蔽性能和透明度上的升级，解决了现有金属网格缺陷多、MXene屏蔽膜成本高等产品缺陷，本发明提供的一种MXene金属网格复合透明电磁屏蔽膜的制备方法，为透明电磁屏蔽膜的发展提供了新的思路。

本发明授权一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种MXene金属网格复合电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于：该制备方法包括如下步骤： S1：透明金属网格制备：将镀有铜膜的透明基底材料置于黄光机内，经过曝光后，材料表面会形成光刻图案，此时需要对光刻图案进行显影、蚀刻及脱膜后处理，将光刻后的透明基底材料取出，并进行清洗和干燥处理，形成透明金属网格，透明基底材料无需去除，以确保透明金属网格的可操作性； 其中，所述透明金属网格采用黄光减法工艺制备，线宽控制在2-20微米； S2：MXene硫化处理，将MXene粉末放入反应器中，并加入一定量的硫源，将反应器置于气氛炉中，用硫气氛法对MXene粉末进行轻微硫化处理，气氛炉温度控制在60-300℃，使硫源均匀分布于MXene粉末表面，反应完成后，取出MXene粉末，并进行干燥处理； 其中，所述MXene粉末与硫源的质量比为100:1到10000:1，硫源可选单质硫或可分解硫盐； S3：MXene金属网格复合透明电磁屏蔽膜的制备，将步骤S2得到的产物配制成分散液，涂布于透明金属网格表面，制成复合透明电磁屏蔽膜； 其中，所述分散液配制为1％-20％质量分数的分散液； 所述分散液的溶剂配制选用水、乙醇或正己烷的一种； S4：复合电磁屏蔽膜后处理，对复合屏蔽膜进行烘干处理，烘干温度控制在50-90℃，烘干过程采用真空或惰性气体中的一种进行保护； S5：对MXene金属网格复合透明电磁屏蔽膜进行测试和优化，确保具有良好的电磁屏蔽性能和稳定性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市志凌伟业光电有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区大富工业区11号鹏龙蟠高科技园B栋厂房301、401；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。