河北工业大学崔德兴获国家专利权
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龙图腾网获悉河北工业大学申请的专利基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效的4H-SiC化学机械抛光液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117417695B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311352117.1，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效的4H-SiC化学机械抛光液是由崔德兴;张保国;刘敏;咸文豪设计研发完成，并于2023-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效的4H-SiC化学机械抛光液在说明书摘要公布了：本发明为一种基于KMnO4‑Al2O3体系的Mn氧化物增效4H‑SiC化学机械抛光液。所述抛光液包括氧化剂KMnO4、Al2O3磨料颗粒、Mn氧化物、pH调节剂和去离子水；其中，氧化剂KMnO4的浓度为0.01～0.1molL，Al2O3磨料颗粒的浓度为0.01wt.％～10wt.％，Al2O3磨料颗粒的粒径为100nm～500nm，Mn氧化物的浓度为0.01wt.％～1wt.％，所述4H‑SiC抛光液pH值为7～11。所述Mn氧化物为MnO2、Mn2O3、Mn3O4中的一种或几种。本发明解决了传统碳化硅抛光液对4H‑SiC晶圆表面材料去除速率低、抛光后表面质量差、对设备腐蚀严重的问题。
本发明授权基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效的4H-SiC化学机械抛光液在权利要求书中公布了：1.一种基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效4H-SiC化学机械抛光液，其特征为，所述抛光液包括氧化剂KMnO4、Al2O3磨料颗粒、Mn氧化物和去离子水，pH值为7~11；pH调节剂为HNO3或KOH； 其中，氧化剂KMnO4的浓度为0.01~0.1molL，Al2O3磨料颗粒的浓度为0.01wt.%~10wt.%，Al2O3磨料颗粒的粒径为100nm~500nm，Mn氧化物的浓度为0.01wt.%~1wt.%； 所述Mn氧化物为MnO2和Mn3O4。
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