东京毅力科创株式会社甲斐亚希子获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114100967B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110953845.2，技术领域涉及：B05C5/02；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由甲斐亚希子设计研发完成，并于2021-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，用于在基板的周缘部形成膜厚更均匀的处理膜。对基板表面的周缘部形成处理膜的基板处理方法包括：向所述周缘部供给用于形成所述处理膜的处理液；以及使被供给到所述基板表面中的比被供给了所述处理液的区域更靠内侧的区域的成形用溶剂与被供给到所述周缘部的所述处理液的靠所述基板的中央侧的边界接触。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，用于在基板表面的周缘部形成处理膜，该基板处理方法包括： 在使所述基板旋转的状态下，向所述基板表面的中心供给被配置为溶解处理液的成形用溶剂以使所述成形用溶剂沿所述基板的径向扩散， 向所述基板表面的周缘部供给用于形成所述处理膜的所述处理液；以及 使被供给到所述基板表面中的比被供给所述处理液的区域更靠内侧的区域的所述成形用溶剂与被供给到所述周缘部的所述处理液的靠所述基板的中央侧的边界接触以溶解所述处理膜的至少一部分并调整所述处理膜的表面形状。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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