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龙图腾网获悉微-埃普西龙测量技术有限两合公司申请的专利用于对具有反射和/或部分反射表面的对象进行光学测量的方法和系统以及相应的测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127787B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080042733.5，技术领域涉及：G06T7/514；该发明授权用于对具有反射和/或部分反射表面的对象进行光学测量的方法和系统以及相应的测量装置是由勒纳·凯克杰拉德;亚历山大·齐默尔曼;克里斯汀·法伯尔;梁汉宁设计研发完成，并于2020-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于对具有反射和/或部分反射表面的对象进行光学测量的方法和系统以及相应的测量装置在说明书摘要公布了：本发明公开一种用于对具有反射和或部分反射表面的对象进行光学测量的方法。在此，借助于图案生成器1产生平面图案13，所述平面图案在至少一个光学特性方面变化，使得至少在子区域10中可以彼此区分大量不同的点p或大量不同点组。图案13的至少部分通过对象3的反射表面2作为反射图案被反射到摄像机单元4的探测器14上，其中反射图案通过探测器14被转换成摄像机图像9。摄像机图像9的点q与图案13的对应点p之间的关系可以借助于对应函数描述，所述对应函数与对象3的反射表面2的几何特性有关。对象3的反射表面2的几何特性中的至少一个通过使用由对应函数给出的变换的微分几何特性来确定。此外公开了相应的系统以及相应的测量装置。

本发明授权用于对具有反射和/或部分反射表面的对象进行光学测量的方法和系统以及相应的测量装置在权利要求书中公布了：1.一种用于对具有反射和或部分反射表面的对象进行光学测量的方法， 其中，借助于图案生成器1产生平面的图案13，所述图案在至少一种光学特性上被改变，使得至少在子区域10中能够彼此区分大量不同的点p或大量不同点组， 其中，所述图案13的至少部分通过对象3的反射表面2作为反射图案被反射到摄像机单元4的探测器14上，所述反射图案通过探测器14被转换成摄像机图像9，所述摄像机图像9的点q和所述图案13的对应的点p之间的关系能够借助于对应函数描述，所述对应函数与所述对象3的反射表面2的几何特性有关，并且 其中，通过使用由所述对应函数给出的变换的微分几何特性来确定所述对象3的反射表面2的几何特性中的至少一个， 其中，在计算所述对应函数的参数时和或在计算由所述对应函数给出的变换的微分几何特性时，针对所述摄像机图像9中的曲线17确定所述图案13的对应的曲线18，其中所述图案13的对应的曲线18由所述图案13的点构成，所述点当在所述对象3的反射表面2处的反射之后在所述摄像机图像9中产生曲线17。

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