日产化学株式会社绪方裕斗获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114174926B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080052220.2，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权抗蚀剂下层膜形成用组合物是由绪方裕斗;西卷裕和;中岛诚;光武祐希;服部隼人设计研发完成，并于2020-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数，即使对所谓高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外，提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含碳原子数6～60的芳香族化合物A与下述式B所示的化合物的反应生成物、和溶剂。式中，X表示氧原子、或氮原子，Y表示单键、氧原子、或氮原子，X与Y也可以彼此结合而形成环，R1、R2、R3、和R4各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～8的环状烷基、或碳原子数6～10的芳香族基，R2仅在X为氮原子的情况下存在，R4仅在Y为氮原子的情况下存在。
本发明授权抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含碳原子数6～60的芳香族化合物A与下述式C所示的马来酰亚胺衍生物的反应生成物、和溶剂， 式中，R1表示氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～8的环状烷基、或碳原子数6～10的芳香族基， 所述碳原子数6～60的芳香族化合物A为选自下述化合物中的1种或2种以上，
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