应用材料公司A·纳耿加斯特获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利具有局部晶片压力的抛光头获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114454088B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111329396.0，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权具有局部晶片压力的抛光头是由A·纳耿加斯特;S·M·苏尼加;J·古鲁萨米;C·C·加勒森;V·高尔伯特设计研发完成，并于2021-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有局部晶片压力的抛光头在说明书摘要公布了：一种抛光系统，包括托架臂，所述托架臂具有设置在所述托架臂的下表面上的致动器。致动器包括活塞和耦接到活塞的远端的滚柱。所述抛光系统包括抛光垫和基板载体，所述基板载体悬挂自托架臂，并且被配置为在基板与抛光垫之间施加压力。基板载体包括壳体、扣环和膜。基板载体包括被设置在壳体中的上部负载环。致动器的滚柱被配置为在基板载体与托架臂之间的相对旋转期间接触上部负载环。致动器被配置为向上部负载环的一部分施加负载，从而改变施加在基板与抛光垫之间的压力。
本发明授权具有局部晶片压力的抛光头在权利要求书中公布了：1.一种基板载体，所述基板载体被配置为附接至用于抛光基板的抛光系统，所述基板载体包括： 壳体； 扣环，所述扣环耦接至所述壳体； 膜，所述膜设置在所述壳体内并跨越所述扣环的内直径，所述膜具有： 底部部分，所述底部部分被配置为接触所述基板； 上部部分，所述上部部分与所述底部部分相对；以及 侧部部分，所述侧部部分在所述底部部分与所述上部部分之间正交延伸，其中外边缘将所述侧部部分连接至所述底部部分；以及 致动器，所述致动器设置在所述膜的所述外边缘上并且被配置为将负载朝向所述基板施加至所述膜的所述外边缘，从而改变施加在安置于所述基板载体中的所述基板与抛光垫之间的压力， 其中所述侧部部分包括沿所述侧部部分的外边缘形成的环形凹槽，环形套筒设置在所述环形凹槽中，并且施加至所述膜的所述外边缘的所述负载是经由所述环形套筒来施加的，以及 其中所述致动器包括活塞，所述活塞接合所述膜的所述上部部分，其中施加至所述膜的所述外边缘的所述负载是通过所述活塞将负载施加至所述膜的所述上部部分来施加的。
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