富士胶片株式会社吉田慎平获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利光学各向异性层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116057433B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180057997.2，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权光学各向异性层是由吉田慎平;高桥勇太;矢村健太郎;小玉启祐设计研发完成，并于2021-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学各向异性层在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学各向异性层，其在厚度方向上具有液晶化合物的取向状态不同的2个层，并抑制面内的光学不均匀。本发明的光学各向异性层为使用液晶化合物而形成的光学各向异性层，光学各向异性层沿厚度方向具有第1层和与第1层直接接触的第2层，第1层中的液晶化合物的取向状态与第2层中的液晶化合物的取向状态不同，将在光学各向异性层的表面上能够描绘的最大尺寸的正方形内的区域细分为64个相同面积的正方形的子区域，求出子区域的中心位置处的第1层的厚度d1及第2层的厚度d2，并计算每个子区域的式1所表示的X，在计算出的64个X中将最大值设为Xmax且将最小值设为Xmin时，满足式2A的关系。式1X＝d1d1+d2，式2AXmaxXmin＜1.10。
本发明授权光学各向异性层在权利要求书中公布了：1.一种光学各向异性层，其使用液晶化合物而形成，其中， 所述光学各向异性层沿厚度方向具有第1层和与所述第1层直接接触的第2层， 所述第1层中的所述液晶化合物的取向状态与所述第2层中的液晶化合物的取向状态不同， 将在所述光学各向异性层的表面上能够描绘的最大尺寸的正方形内的区域细分为64个相同面积的正方形的子区域，求出所述子区域的中心位置处的所述第1层的厚度d1及所述第2层的厚度d2，并计算每个所述子区域的式1所表示的X，在计算出的64个X中将最大值设为Xmax且将最小值设为Xmin时，满足式2A的关系， 所述第2层为将沿着沿厚度方向延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物的取向状态固定而成的层，扭曲角为50～110°， 式1X=d1d1+d2， 式2AXmaxXmin＜1.10。
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