北京环境特性研究所邓浩川获国家专利权
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龙图腾网获悉北京环境特性研究所申请的专利一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116341345B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310314477.6，技术领域涉及：G06F30/25；该发明授权一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法是由邓浩川;满良;冯雪健;吴洋设计研发完成，并于2023-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法，涉及电磁修正领域，包括以下步骤：仿真计算模型表面的电子密度，将仿真计算的绕流场电子密度分布作为基础分布；通过观测点的RCS测量结果，反演修正函数；将修正函数在原点处展开为泰勒级数，得到修正函数为：通过修正函数与基础分布在任意位置相乘获得任意位置电子密度的修正值；由遗传算法筛选出的最优个体即为反演修正结果，本发明具有在已知目标外形、等离子体绕流场电子密度分布仿真结果和有限方位角内、有限频点目标受等离子体影响后RCS的改变量之后，可以实现对等离子体绕流场电子密度分布仿真结果的修正，进一步提高等离子体电子密度仿真结果的精确度的优点。
本发明授权一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体绕流场电子密度分布电磁修正方法，其特征在于：包括以下步骤： Ⅰ.仿真计算模型表面的电子密度，将仿真计算的绕流场电子密度分布作为基础分布； Ⅱ.通过观测点的RCS测量结果，反演修正函数；将修正函数在原点处展开为泰勒级数，得到修正函数为： 通过修正函数与基础分布在任意位置相乘获得任意位置电子密度的修正值； Ⅲ.定义相应的目标代价函数： 其中，表示频率观察点数目； 表示有等离子体绕流场下，实验测量的固定观察角处在频率处的RCS值； 表示只有本体情形下，实验测量的固定观察角处在频率处的RCS值； 表示有等离子体绕流场下，仿真计算的固定观察角处在频率处的RCS值； 表示只有本体情形下，仿真计算的固定观察角处在频率处的RCS值； 根据有等离子体绕流场下，流场分布由时域有限差分方法计算得到，随后由遗传算法筛选出的最优个体即为反演修正结果。
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