大连理工大学贺高红获国家专利权
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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷/聚醚砜超薄复合膜、制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116440715B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310397752.5，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷/聚醚砜超薄复合膜、制备方法和应用是由贺高红;康菲菲;阮雪华;张秀娟设计研发完成，并于2023-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷/聚醚砜超薄复合膜、制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于气液两相气体分离膜如从液体中对其中气体进行分离的技术领域，公开了一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷聚醚砜超薄复合膜、制备方法和应用，是一种使用单宁酸表面修饰，以聚醚砜为多孔支撑层为基膜，聚二甲基硅氧烷致密膜为分离层的复合膜，可作用于气液相界面处实现气体与液体O2和CO2的交换。本发明应用于制备高CO2O2选择性、高气体渗透性、良好抗污染性的复合膜材料。本发明整体制膜工艺简单，原料价格低廉制，可耐高温高压，有较大的应用潜力。单宁酸表面修饰方法简单，能够提高PDMSPES复合膜的亲水性，提高其抗污染性能，更有利于气液两相环境中气体分离。
本发明授权一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷/聚醚砜超薄复合膜、制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷聚醚砜超薄复合膜，其特征在于，该单宁酸表面修饰的聚二甲基硅氧烷聚醚砜超薄复合膜包括复合膜基膜和涂覆层；其中，复合膜基膜为聚醚砜材料，涂覆层为单宁酸自组装的PDMS致密分离层；聚二甲基硅氧烷聚醚砜超薄复合膜的厚度可调控范围为70-150μm，涂覆层的厚度根据需求可调控为0.07-5μm；其中复合膜基膜呈现疏松指状孔状态，其内部空腔较大，且表面遍布微孔，涂覆层厚度随涂膜液浓度增加而增厚。
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