三菱瓦斯化学株式会社宫原大治获国家专利权
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龙图腾网获悉三菱瓦斯化学株式会社申请的专利带有图案的基板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116490534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180080149.3，技术领域涉及：G03F7/027；该发明授权带有图案的基板的制造方法是由宫原大治;佐藤由实;梅木美穗设计研发完成，并于2021-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本带有图案的基板的制造方法在说明书摘要公布了：一种带有图案的基板的制造方法，其包括：在基板上形成由感光性聚酰亚胺树脂组合物形成的膜的工序a；对上述膜进行曝光的工序b；通过使用显影液对经曝光的上述膜进行显影，从而在上述基板上形成由上述膜形成的图案的工序c，上述显影液与曝光前的上述膜的相对能量差RED为0.50以上且1.4以下。
本发明授权带有图案的基板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种带有图案的基板的制造方法，其包括： 在基板上形成由感光性聚酰亚胺树脂组合物形成的膜的工序a； 对所述膜进行曝光的工序b；以及 通过使用显影液对经曝光的所述膜进行显影，从而在所述基板上形成由所述膜形成的图案的工序c， 所述显影液与曝光前的所述膜的相对能量差RED为0.50以上且1.4以下； 其中，所述显影液为有机溶剂；和 所述感光性聚酰亚胺树脂组合物中包含的聚酰亚胺树脂包含具有下述通式1所示重复结构的改性聚酰亚胺树脂A， 所述通式1中，R为具有环状结构、非环状结构、或者环状结构和非环状结构的碳原子数4～25的四价基团；A为具有选自由脂肪族烃基、脂环式烃基、芳香族烃基和有机硅氧烷基组成的组中的至少1种基团，并且碳原子数为2～39的二价基团，在A的主链中任选夹杂有选自由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-CCH32-、-C2H4O-和-S-组成的组中的至少1种基团；n表示重复单元数；所述通式1的末端为下述通式2或通式3所示的基团或者氢原子中的任意者，至少一个末端为下述通式2或下述通式3所示的基团， 所述通式2和3中，X和X2各自独立地为碳原子数2～15的基团，任选具有选自由酯键和双键组成的组中的至少1种基团；Y和Y2各自独立地为氢原子或甲基。
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