之江实验室;浙江大学王洪庆获国家专利权
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龙图腾网获悉之江实验室;浙江大学申请的专利激光刻写方法、装置和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116500869B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310572492.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权激光刻写方法、装置和系统是由王洪庆;匡翠方;罗昊;贾天浩;杨臻垚;刘旭设计研发完成，并于2023-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光刻写方法、装置和系统在说明书摘要公布了：本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括：获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数；根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据；将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据；获取位移台的位置信息；基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时，还实现了表面粗糙度的提升，有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
本发明授权激光刻写方法、装置和系统在权利要求书中公布了：1.一种激光刻写方法，其特征在于，所述方法包括： 获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数； 根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据； 将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据； 获取位移台的位置信息； 基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写； 所述根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据包括： 将二维灰度图像进行二维插值，得到灰度值二维数据； 获取目标结构总高度和层切厚度； 根据所述灰度值二维数据、所述目标结构高度和所述层切厚度生成灰度刻写数据。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人之江实验室;浙江大学，其通讯地址为：311121 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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