应用材料公司;新加坡国立大学安德里亚·列奥尼获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司;新加坡国立大学申请的专利用于沉积钼膜的钼(IV)和钼(III)前驱物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116724144B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280009882.0，技术领域涉及：C07F11/00；该发明授权用于沉积钼膜的钼(IV)和钼(III)前驱物是由安德里亚·列奥尼;保罗·梅尔曼;尼曼贾·多德维克;韩荣·胡恩;多琳·卫英·勇设计研发完成，并于2022-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于沉积钼膜的钼(IV)和钼(III)前驱物在说明书摘要公布了：本发明描述了钼Ⅳ和钼Ⅲ配位络合物。本发明描述了用于在基板上沉积含钼膜的方法。基板被暴露于钼前驱物和反应物以形成含钼膜例如，元素钼、氧化钼、碳化钼、硅化钼、氮化钼。所述暴露可以是顺序的或者同时的。
本发明授权用于沉积钼膜的钼(IV)和钼(III)前驱物在权利要求书中公布了：1.一种包含钼Ⅳ的金属配位络合物， 其中所述金属配位络合物具有式Ia的结构： 其中R是C1-C10烷基， 其中所述金属配位络合物包含小于5%的卤素和羰基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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