科磊股份有限公司海伦·刘获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利图案晶片几何测量上的检测辅助的两阶段相位展开获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116981907B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280019031.4，技术领域涉及：G01B9/02；该发明授权图案晶片几何测量上的检测辅助的两阶段相位展开是由海伦·刘;张国庆;李慧设计研发完成，并于2022-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案晶片几何测量上的检测辅助的两阶段相位展开在说明书摘要公布了：公开用于展开相位图的系统及方法。此类系统及方法可包含：接收与包含经图案化特征的样本的干涉测量相关联的包围相位图；从所述包围相位图移除倾角；产生背景；检测所述包围相位图中的特征，所述包围相位图中的所述特征对应于所述样本的所述经图案化特征中的至少一些；在所述包围相位图中的对应位置处用所述背景替换所述特征的相位；使用全局相位展开来展开所述经修改的包围相位图；应用局部相位展开以恢复所述特征的所述相位；及重新应用所述倾角以产生输出展开相位图。
本发明授权图案晶片几何测量上的检测辅助的两阶段相位展开在权利要求书中公布了：1.一种计量系统，其包括： 控制器，其通信地耦合到干涉术工具，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器，所述程序指令致使所述一或多个处理器： 接收与包含经图案化特征的样本的干涉测量相关联的包围相位图； 从所述包围相位图移除倾角； 产生背景； 检测所述包围相位图中的特征，其中所述包围相位图中的所述特征对应于所述样本的所述经图案化特征中的至少一些； 在所述包围相位图中的对应位置处用所述背景替换所述特征的相位以产生经修改的包围相位图； 使用全局相位展开来展开所述经修改的包围相位图以产生暂时展开相位图； 应用局部相位展开以在所述对应位置处恢复所述暂时展开相位图的所述特征的所述相位；及 将所述倾角重新应用于所述暂时展开相位图以产生输出展开相位图。
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