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龙图腾网获悉南京大学申请的专利一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117778973B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311735719.5，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机是由徐永兵;李文嘉;冯冠群;严羽;王倩;陆显扬设计研发完成，并于2023-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机在说明书摘要公布了：本发明涉及一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机，包括线性磁控溅射靶4、卷料盒7、多温区衬底温控装置8，衬底材料通过所述卷料盒7在磁控溅射镀膜机内传输。磁控溅射镀膜机腔体内设有若干个衬底温控装置8，通过设置多温区衬底温控装置8的温度，可以实现衬底在不同区域的温度控制，进而实现多温区薄膜生长的有效控制；本发明能够在卷绕式磁控溅射镀膜机中实现多温区的控制，从而实现每层温度单独精确可控的多层膜电子材料的连续生长，提高溅射镀膜的多样性与可控性，有效提高电子材料与器件的性能和生产效率。

本发明授权一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机在权利要求书中公布了：1.一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述镀膜机包括下真空腔体、上真空腔体、线性磁控溅射靶、开闭腔电机、卷料盒以及衬底温控装置，上真空腔体内设有线性磁控溅射靶，下真空腔体内设有卷料盒和衬底温控装置，线性磁控溅射靶与多温区衬底温控装置正对形成镀膜区域； 所述上真空腔体2包括左侧仪器舱3、线性磁控溅射靶4、右侧仪器舱5，其中线性磁控溅射靶4设置在左侧仪器舱3和右侧仪器舱5之间； 所述下真空腔体1内设有卷料盒7、多温区衬底温控装置8以及真空泵接口13，所述衬底温控装置8位于所述下真空腔体1中央，上表面略高于所述卷料盒7初始收放卷位置，所述卷料盒7设于下真空腔体1内部两端，所述真空泵接口13位于下真空腔体1外表面背面中心处，闭腔后真空泵通过真空泵接口13将真空腔体抽至高真空环境； 所述卷料盒7包括卷料盖7a、卷料轴7b、纺锤形调心辊7c以及卷料盒支架7d，所述卷料轴7b两端通过卷料盖7a将其固定在卷料盒支架7d上，卷料盒支架7d通过轴联滑套9与卷料轴7b的两端连接与分离进而实现在下真空腔体1中的安装与拆卸，通过调整纺锤形调心辊7c的位置可以实现柔性基底镀膜面的选择； 所述多温区衬底温控装置8包括衬底温控支架8a、衬底温控器8b~8d、走线槽8e，所述衬底温控器8b~8d上表面保持水平、共面，且分别与所述线性磁控溅射靶4正对，由此形成多个溅射镀膜区域；衬底温控支架8a上设置有走线槽8e，所述衬底温控器8b~8d与衬底紧密接触以保证温度的精确控制，通过调节不同溅射镀膜区域中的衬底温控器8b~8d的温度即可实现在不同溅射镀膜区域对衬底温度的调节，实现衬底的多温区生长； 所述衬底温控装置8与线性磁控溅射靶4之间的距离可调，由此实现靶基距的调控； 所述卷料盒7通过与密封轴联器11连接的电机控制轴联滑套9与下真空腔体1之间的联结，进而控制卷料盒7在下真空腔体1中的拆分； 所述卷料盒7收放卷初始位置应低于所述衬底温控装置8的上表面，使得所述多温区衬底温控装置8对柔性衬底具有一定的支撑作用；所述卷料盒7可控制柔性衬底的收放卷速度，通过控制收放卷速度以及多温区衬底温控装置8的辅助支撑作用保证柔性衬底与多温区衬底温控装置8完全紧密接触，实现衬底温度的高精度控制。

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