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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种液体原子级镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121428533B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202512039408.0，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种液体原子级镀膜方法是由郭可升;陈欣环;罗爱鑫;徐龙;胡琅设计研发完成，并于2025-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种液体原子级镀膜方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种液体原子级镀膜方法，涉及镀膜技术领域。通过对衬底的表面处理确保了前驱体分子的均匀吸附和反应活性。随后，将稀释后的液体前驱体通过涂覆等工艺形成均匀的单分子层，并通过172nm准分子紫外光源在室温下裂解前驱体分子，产生第一活性物种。根据目标薄膜种类，选择性地通入反应气体，反应气体在172nm准分子紫外光源照射下裂解反应产生第二活性物种，第二活性物种与第一活性物种发生化学反应，形成目标薄膜材料。通过重复循环，实现了薄膜的逐层生长和原子级厚度精确控制。这种“物理‑化学”自限制的液相沉积机制，使得薄膜的原子级均匀沉积成为可能，解决传统气相ALD在前驱体选择、设备复杂性和工艺温度方面的局限性。

本发明授权一种液体原子级镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种液体原子级镀膜方法，其特征在于，包括步骤： S1、对衬底进行表面处理，以去除表面污染物并实现衬底表面活性化； S2、获取液体前驱体，并将其稀释至预设浓度； S3、将稀释后的液体前驱体涂覆至衬底表面，使液体前驱体在衬底表面铺展并形成均匀的前驱体单分子层； S4、在室温下，通过172nm准分子紫外光源照射形成于衬底表面的前驱体单分子层，以使前驱体分子发生裂解反应产生第一活性物种； S5、若目标薄膜种类为金属或非金属单质膜，则跳转至步骤S6；否则，根据目标薄膜种类，通入对应的反应气体，反应气体在172nm准分子紫外光源照射下裂解反应产生第二活性物种，第二活性物种与第一活性物种发生化学反应，以在衬底表面生成单层薄膜材料，并执行步骤S6； S6、对衬底表面进行吹扫，以去除未反应的副产物及残留溶剂； S7、重复步骤S3至步骤S6，直至达到预设的薄膜厚度； 步骤S2包括： 获取液体前驱体，将液体前驱体溶解在惰性溶剂中，并稀释至预设的临界浓度，以形成前驱体溶液； 对前驱体溶液进行分散处理，以确保前驱体分子充分分散； 液体前驱体为能够被172nm紫外光激活的化合物溶液； 步骤S3包括： 将稀释后的液体前驱体喷入衬底表面； 利用第一预设转度对液体前驱体进行铺展，以使液体前驱体在离心力作用力下均匀地铺展在衬底表面，形成一层初始前躯体薄膜； 利用第二预设转速对均匀铺展后的前驱体薄膜进行匀胶，以去除前驱体薄膜中多余的溶剂，并促使液体前驱体分子自发形成均匀的前驱体单分子层。

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