致真精密设备(杭州)有限公司杜寅昌获国家专利权
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龙图腾网获悉致真精密设备(杭州)有限公司申请的专利一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224001488U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520241288.5，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统是由杜寅昌;鞠弘展;李玉婷设计研发完成，并于2025-02-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统，具体涉及磁控溅射镀膜技术领域，包括：用于完成薄膜溅射的真空溅射室和产生溅射产额的电源组件；所述电源组件包括：电源模块一、电源模块二或电源模块三；所述电源模块一包括：HiPIMS电源和DCMS电源；所述电源模块二包括：双脉冲HiPIMS电源；所述电源模块三包括：HiPIMS‑MF复合电源；所述电源组件通过位于真空溅射室底部的磁控溅射阴极与溅射靶材连接。本实用新型通过设置电源组件，若电源组件为HiPIMS电源、DCMS电源、双脉冲HiPIMS电源和HiPIMS‑MF复合电源相配合，则在保证离化率的前提下可以实现更高的溅射速率；使磁控溅射设备处于最佳镀膜工况，在保证金属离子离化率的前提下，可以实现最大的沉积速率。
本实用新型一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统在权利要求书中公布了：1.一种具有高沉积速率的离子化磁控溅射系统，其特征在于：包括：用于完成薄膜溅射的真空溅射室1和产生溅射产额的电源组件3； 所述电源组件3包括：电源模块一、电源模块二或电源模块三； 所述电源模块一包括：HiPIMS电源31和DCMS电源32； 所述电源模块二包括：双脉冲HiPIMS电源33； 所述电源模块三包括：HiPIMS-MF复合电源34； 所述电源组件3通过位于真空溅射室1底部的磁控溅射阴极5与溅射靶材6连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人致真精密设备(杭州)有限公司，其通讯地址为：311100 浙江省杭州市余杭区瓶窑镇瓶仓大道960号鼎创科技中心3幢101-107室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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