聚灿光电科技(宿迁)有限公司吴霁圃获国家专利权
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龙图腾网获悉聚灿光电科技(宿迁)有限公司申请的专利一种复合精密绝缘层结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224001497U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520515522.9,技术领域涉及:C23C16/40;该实用新型一种复合精密绝缘层结构是由吴霁圃;程叶;杨猛设计研发完成,并于2025-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种复合精密绝缘层结构在说明书摘要公布了:本实用新型属于绝缘层技术领域,具体涉及一种复合精密绝缘层结构,采用原子沉积系统,第一层采用前驱源与金属源,形成高折射率层;第二层采用前驱源与金属源,形成低折射率层;第三层至N层采用前驱源交替形成周期性折射率梯度结构,其中总层数N≧3,单层厚度为λ4n,λ为目标调控光波长,n为膜层折射率。本实用新型采用三层以上的交替堆叠,可实现透过不同前驱源所形成的绝缘层来得到高、低折射率薄膜,做布拉格结构,提升了反射率;另外,第三层开始形成周期性折射率的梯度结构,利于发光器件对于光溢出和光反射的调控需求。
本实用新型一种复合精密绝缘层结构在权利要求书中公布了:1.一种复合精密绝缘层结构,采用原子沉积系统,其特征在于:第一层采用前驱源与金属源,形成高折射率层;第二层采用前驱源与金属源,形成低折射率层;第三层至N层采用前驱源交替形成周期性折射率梯度结构,其中总层数N≧3,单层厚度为λ4n,λ为目标调控光波长,n为膜层折射率。
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