深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司张勇获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请的专利可选择性镀膜的载具结构及镀膜设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224001503U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520105396.X,技术领域涉及:C23C16/458;该实用新型可选择性镀膜的载具结构及镀膜设备是由张勇;邓金生;王晨光;彭亚萍;李美诗设计研发完成,并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本可选择性镀膜的载具结构及镀膜设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了可选择性镀膜的载具结构及镀膜设备,载具结构包括:用于放置硅片的石墨片,硅片的镀膜面贴合设有至少一层掩膜体,掩膜体设有与硅片镀膜形状相匹配的开槽,石墨片设有用于限制硅片和掩膜体移动的限位结构。其中,限位结构包括设于石墨片上的凹台,硅片放置于凹台中,凹台的深度大于硅片的厚度,以使掩膜体至少有一部分位于凹台内。本实用新型仅在需要印刷栅线的位置提前镀膜,除印刷栅线区域外无需镀膜,更薄的硅片尺寸既能提高光电转化效率,又可省去额外的激光减薄工序,大幅节约设备投入成本。
本实用新型可选择性镀膜的载具结构及镀膜设备在权利要求书中公布了:1.可选择性镀膜的载具结构,其特征在于,包括:用于放置硅片2的石墨片11,所述硅片2的镀膜面贴合设有至少一层掩膜体3,所述掩膜体3设有与所述硅片2镀膜形状相匹配的开槽31,所述石墨片11设有用于限制所述硅片2和所述掩膜体3移动的限位结构;所述限位结构包括设于所述石墨片11上的凹台,所述硅片2放置于所述凹台中,所述凹台的深度大于所述硅片2的厚度,以使所述掩膜体3至少有一部分位于所述凹台内。
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