东京毅力科创株式会社约迪·格热希科维亚克获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利图案化基板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114424321B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080066595.4，技术领域涉及：H10P76/40；该发明授权图案化基板是由约迪·格热希科维亚克;安东尼·舍皮斯;安东·J·德维利耶设计研发完成，并于2020-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案化基板在说明书摘要公布了：一种用于图案化基板的方法，在该方法中,可以在基板上形成图案化的光致抗蚀剂结构，图案化的光致抗蚀剂结构具有侧壁。可以在侧壁上沉积间隔物材料的共形层。然后,可从基板去除图案化的光致抗蚀剂结构，留下间隔物材料。然后，可以使用侧壁间隔物作为蚀刻掩模来定向地蚀刻基板以形成具有目标临界尺寸的基板。
本发明授权图案化基板在权利要求书中公布了：1.一种图案化基板的方法，所述方法包括： 在所述基板上形成图案化的光致抗蚀剂结构，所述图案化的光致抗蚀剂结构具有侧壁，所述侧壁具有与要在所述基板中形成的基板特征的目标临界尺寸对应的预定侧壁斜率； 在所述侧壁上沉积间隔物材料的共形层，使得所述侧壁上的所述间隔物材料具有与所述目标临界尺寸不同的第一投影临界尺寸； 从所述基板去除所述图案化的光致抗蚀剂结构，使得所述间隔物材料保持为形成在所述基板上的侧壁间隔物并且所述侧壁间隔物由于所述间隔物材料中的应力的松弛而具有第二投影临界尺寸；以及 使用所述侧壁间隔物作为蚀刻掩模定向地蚀刻所述基板，以在所述基板中形成具有所述第二投影临界尺寸的所述基板特征，其中，所述第二投影临界尺寸比所述第一投影临界尺寸更接近所述目标临界尺寸， 其中，所述图案化的光致抗蚀剂结构具有倒锥形轮廓，并且 其中，沉积的所述间隔物材料在所述侧壁上形成具有均匀厚度的层，并且沉积的所述间隔物材料遵循所述图案化的光致抗蚀剂结构的轮廓。
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