西北工业大学叶谦获国家专利权
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龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜及其制备方法和在钙钛矿太阳能电池中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115312668B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210945706.X，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜及其制备方法和在钙钛矿太阳能电池中的应用是由叶谦;张凯源;叶林峰;刘淑娟;王洪强设计研发完成，并于2022-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜及其制备方法和在钙钛矿太阳能电池中的应用在说明书摘要公布了：本发明属于太阳能电池制备技术领域，涉及左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜及其制备方法和在钙钛矿太阳能电池中的应用。本发明采用左旋多巴分子通过在钙钛矿和二氧化钛中引入分子界面层，钝化了钙钛矿和二氧化钛中的缺陷，提升了光电转化效率，加强了工作稳定性和存储稳定性；本发明制备的左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜还能够在制备钙钛矿太阳能电池中进行应用，钙钛矿太阳能电池由由下至上依次设置的导电基底、电子传输层、钙钛矿层、空穴传输层和金属电极层制成，其中电子传输层为左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜。
本发明授权左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜及其制备方法和在钙钛矿太阳能电池中的应用在权利要求书中公布了：1.一种左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 1制备二氧化钛胶体溶液； 2将导电基底先于步骤1的二氧化钛胶体溶液中沉积，得到一段沉积基底； 3将步骤2的一段沉积基底由二氧化钛胶体溶液中取出，然后向二氧化钛胶体溶液中加入左旋多巴分子，混合均匀得到混合液，将一段沉积基底于混合液进行沉积，得到二段沉积基底； 其中，左旋多巴分子的质量与步骤2二氧化钛胶体溶液的体积比为0.2-0.6mg：1mL； 4将步骤3的二段沉积基底清洗后退火处理，得到左旋多巴分子修饰的二氧化钛薄膜； 所述步骤1中二氧化钛胶体溶液按照如下步骤制备：将四氯化钛溶解于水中，于0-60℃下反应15min，得到二氧化钛胶体溶液； 其中，二氧化钛胶体溶液中四氯化钛的浓度为150-250mmolL。
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