迪睿合株式会社菊池正尚获国家专利权
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龙图腾网获悉迪睿合株式会社申请的专利原盘、转印物以及原盘的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115407605B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211127571.2,技术领域涉及:G03F7/00;该发明授权原盘、转印物以及原盘的制造方法是由菊池正尚;田泽洋志;野上朝彦;林部和弥设计研发完成,并于2018-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本原盘、转印物以及原盘的制造方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种原盘、转印物以及原盘的制造方法,特别是提供形成有更为复杂的微细构造的原盘、使用该原盘的转印物以及该原盘的制造方法。一种原盘,其中,多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置,所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下,所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。
本发明授权原盘、转印物以及原盘的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种原盘,其特征在于, 多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置, 所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下, 所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少三个以上组中的任何一个, 各个所述凹部或各个所述凸部的自所述基材表面的形成长度,基于所述凹凸集合体所实现的功能而在所述凹凸集合体内沿规定的方向阶段性地变化。
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