重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司谢德勋获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司申请的专利发光按键获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115458356B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110642027.0,技术领域涉及:H01H13/83;该发明授权发光按键是由谢德勋;陈兆俞;陈晏彰;林坤德设计研发完成,并于2021-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光按键在说明书摘要公布了:本发明公开一种发光按键,其包含底板、薄膜开关层、键帽、升降机构、背光装置以及至少一弹性体。底板具有至少一第一破孔。薄膜开关层具有至少一第二破孔。薄膜开关层设置于底板的上表面或下表面上致使每一个第二破孔位于其对应的第一破孔的上方或下方。升降机构设置于底板与键帽之间。升降机构包含至少一突出结构。至少一弹性体形成于背光装置上。背光装置设置于底板的下方致使每一个弹性体穿过其对应的第一破孔与其对应的第二破孔内。当键帽位于按压位置时,每一个突出结构伸入其对应的第一破孔与其对应的第二破孔内且压缩置于其对应的弹性体。本发明运用形成在背光装置上的弹性体来协助消除噪音且提升按压触感反馈。
本发明授权发光按键在权利要求书中公布了:1.一种发光按键,其特征在于包含: 底板,具有至少一第一破孔; 薄膜开关层,具有至少一第二破孔,每一个第二破孔对应该至少一第一破孔中的一个第一破孔,该薄膜开关层设置于该底板的上表面致使每一个第二破孔位于其对应的第一破孔的上方或者该薄膜开关层设置于该底板的下表面致使每一个第二破孔位于其对应的第一破孔的下方; 键帽,置于该底板的上方且该键帽能相对于该底板垂直移动; 升降机构,设置于该底板与该键帽之间,该升降机构限制该键帽于未按压位置与按压位置之间移动,该升降机构包含至少一突出结构,每一个突出结构对应该至少一第二破孔中的一个第二破孔; 背光装置;以及 至少一弹性体,形成于该背光装置上,每一个弹性体对应该至少一第一破孔中的一个第一破孔,其中该背光装置设置于该底板的下方致使每一个弹性体置于其对应的第一破孔与其对应的第二破孔内, 其中当该键帽位于该按压位置时,每一个突出结构伸入其对应的第一破孔与其对应的第二破孔内且压缩其对应的弹性体; 该背光装置包含导光板及遮光膜片,该至少一弹性体形成于该遮光膜片上或该导光板上或该遮光膜片与该导光板之间。
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