东京毅力科创株式会社远藤宏纪获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片处理装置的维护方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115775717B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211063951.4,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权基片处理装置和基片处理装置的维护方法是由远藤宏纪;永岛望;佐藤优;伊藤功英;濑口泰生;喜多川大设计研发完成,并于2022-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和基片处理装置的维护方法在说明书摘要公布了:本发明提供能够容易地维护基片处理装置的内壁部件的技术。本发明的基片处理装置包括腔室、基片支承器、支承部件、内壁部件、接触部件和致动器。基片支承器设置在腔室内。支承部件设置在基片支承器的上方。内壁部件包括能够配置在基片支承器的上方且支承部件的下方的顶部。接触部件安装在支承部件和内壁部件中的一者。接触部件构成为,通过对支承部件和内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力,将内壁部件可拆装地固定在支承部件。致动器构成为使内壁部件向下方移动而解除内壁部件相对于支承部件的固定。
本发明授权基片处理装置和基片处理装置的维护方法在权利要求书中公布了:1.一种基片处理装置,其特征在于,包括: 包括提供开口的侧壁的腔室; 设置在所述腔室内的基片支承器; 设置在所述基片支承器的上方的支承部件; 内壁部件,其包括配置在所述基片支承器的上方且所述支承部件之下的顶部; 接触部件,其安装在所述支承部件和所述内壁部件中的一者,通过对所述支承部件和所述内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力,将所述内壁部件可拆装地固定在所述支承部件;和 致动器,其构成为通过使所述内壁部件向下方移动而解除所述内壁部件相对于所述支承部件的固定。
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