成都瑞波科材料科技有限公司杨郝楠获国家专利权
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龙图腾网获悉成都瑞波科材料科技有限公司申请的专利光学膜及其制造方法、光学器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115847859B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211586395.9，技术领域涉及：B29C70/30；该发明授权光学膜及其制造方法、光学器件是由杨郝楠设计研发完成，并于2022-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学膜及其制造方法、光学器件在说明书摘要公布了：本申请属于光学膜制造技术领域，具体涉及一种光学膜及其制造方法、光学器件。该光学膜的制造方法包括：配置第一功能材料溶液和第二功能材料溶液；在基材上涂布第一功能材料溶液，形成第一功能层；对第一功能层进行第一电离处理，以使第一功能层的表面产生极性部位；在第一功能层的表面上涂布第二功能材料溶液，形成第二功能层。由本申请实施例的制造方法制造而成的光学膜的第一功能层和第二功能层之间未通过粘连层相连，且第二功能层可直接涂布于第一功能层，而无需涂布于单独的基材上，因此该光学膜的厚度较小、体积轻薄、柔韧性较好，且光学性能较好。
本发明授权光学膜及其制造方法、光学器件在权利要求书中公布了：1.一种光学膜的制造方法，其特征在于，包括： 配置第一功能材料溶液和第二功能材料溶液； 在基材上涂布所述第一功能材料溶液，形成第一功能层； 对所述第一功能层进行第一电离处理，以使所述第一功能层的表面产生极性部位； 在所述第一功能层的表面上涂布所述第二功能材料溶液，形成第二功能层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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