株式会社日立制作所三好拓人获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立制作所申请的专利粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116099134B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211044303.4，技术领域涉及：A61B18/00；该发明授权粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法是由三好拓人;野村拓也;伊藤友纪;丰田高士;山田贵启设计研发完成，并于2022-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法在说明书摘要公布了：本公开涉及粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法。提供一种能够更准确地控制向被检者照射的粒子射束的剂量的粒子线治疗系统。剂量监控器202测量射束160的剂量。位置监控器203测量射束160的射束尺寸。照射控制装置108根据射束160的剂量以及射束尺寸，计算剂量监控器202的测量特性，根据该测量特性以及剂量，控制射束160向患者150的照射。
本发明授权粒子线治疗系统、照射控制装置以及照射控制方法在权利要求书中公布了：1.一种向被检者照射粒子射束的粒子线治疗系统，其特征在于， 所述粒子线治疗系统具有： 剂量监控器，其测量所述粒子射束的剂量； 位置监控器，其测量所述粒子射束的射束尺寸； 照射控制装置，其根据所述剂量和所述射束尺寸来计算所述剂量监控器的测量特性，根据所述测量特性和所述剂量来控制所述粒子射束向所述被检者的照射， 所述照射控制装置根据所述测量特性来计算校正了所述剂量而得的校正剂量，在所述校正剂量的累计值达到了目标剂量的情况下，执行结束所述粒子射束的照射的处理，或者， 所述照射控制装置根据所述测量特性，计算对预先决定的目标剂量进行了校正的校正目标剂量，在所述剂量的累计值达到了所述校正目标剂量的情况下，执行结束所述粒子射束的照射的处理。
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