华为技术有限公司高桥诚司获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利图像传感器及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116114068B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080103869.2,技术领域涉及:H10F39/00;该发明授权图像传感器及装置是由高桥诚司设计研发完成,并于2020-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本图像传感器及装置在说明书摘要公布了:本发明提供了一种图像传感器。所述图像传感器包括:正面结构,包括用于提供电压给背面结构中的背面金属网格的多个正面触点;设置在所述正面结构上的半导体层,其中,多个光电二极管嵌入在所述半导体层的像素阵列区域中。所述背面结构包括:所述背面金属网格,其中,所述背面金属网格在光学屏蔽区域中具有与所述半导体层接触的背面触点;设置在所述背面金属网格和所述半导体层之间的氧化物层;填充有延伸到所述半导体层的p型阱区或n型阱区的固定电荷材料的多个背面深槽隔离deeptrenchisolation,DTI部分,其中,所述光学屏蔽区域中的至少一个DTI部分比所述背面触点更远离所述像素阵列区域的中心。
本发明授权图像传感器及装置在权利要求书中公布了:1.一种图像传感器,其特征在于,所述图像传感器包括: 正面结构,包括用于提供电压给背面结构中的背面金属网格的多个正面触点; 设置在所述正面结构上的半导体层,其中,多个光电二极管嵌入在所述半导体层的像素阵列区域中; 所述背面结构包括:所述背面金属网格,其中,所述背面金属网格在光学屏蔽区域中具有与所述半导体层接触的背面触点;设置在所述背面金属网格和所述半导体层之间的氧化物层;填充有延伸到所述半导体层的p型阱区或n型阱区的氧化物和固定电荷材料的多个背面深槽隔离部分, 至少一个背面深槽隔离部分和至少一个正面触点比面向所述光学屏蔽区域中的所述背面触点的位置更远离所述像素阵列区域的中心。
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