东京毅力科创株式会社山岸孝幸获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利连接处理容器和基片处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116137241B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211396488.5,技术领域涉及:H10P72/00;该发明授权连接处理容器和基片处理方法是由山岸孝幸设计研发完成,并于2022-11-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本连接处理容器和基片处理方法在说明书摘要公布了:本发明提供连接处理容器和基片处理方法。本发明要解决的技术问题是,对被连接的处理容器,能够进行稳定的支承,并且能够抑制由热膨胀导致的基片的输送位置的偏移。本发明的连接处理容器包括:以形成间隙的方式在横向上排列设置的第一处理容器和第二处理容器,其各自能够收纳基片以进行真空处理;被固定于第一处理容器的第一块部;被固定于第二处理容器的第二块部,其与所述第一块部在所述横向上排列配置;和将所述第一块部和所述第二块部可滑动地连接的导轨部,其以跨所述第一处理容器和所述第二处理容器的方式设置。
本发明授权连接处理容器和基片处理方法在权利要求书中公布了:1.一种连接处理容器,其特征在于,包括: 以形成间隙的方式在横向上排列设置的第一处理容器和第二处理容器,其各自包括能够载置基片以进行真空处理的载置台; 被固定于所述第一处理容器的第一块部; 被固定于所述第二处理容器的第二块部,其与所述第一块部在所述横向上排列配置;和 将所述第一块部和所述第二块部可滑动地连接的导轨部,其以跨所述第一处理容器和所述第二处理容器的方式设置, 所述第一处理容器中的所述载置台的中心与所述第二处理容器中的所述载置台的中心之间的间距保持不变。
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