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龙图腾网获悉山东浪潮华光光电子股份有限公司申请的专利一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116344426B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111591428.4，技术领域涉及：H10P72/78；该发明授权一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘是由赵克家;解华斌设计研发完成，并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘在说明书摘要公布了：本发明涉及一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘，属于半导体生产制造领域，包括吸附载盘、底盘和真空调节滑杆，吸附载盘底部中心区域掏空形成一圆形凹槽，其内设置有一环形隔断和纵向隔断；环形隔断内部与底盘之间形成腔室A，环形隔断外部与底盘之间形成腔室B，真空管道A、B一端分别与腔室A、B相通；真空调节滑杆沿圆形凹槽的径向设置，并且能够沿圆形凹槽中心转动，用于调节其与纵向隔断之间的角度大小，吸附不完整的晶圆片和完整晶圆片。本发明可以根据晶圆片的形状调节真空区域，可以放置不完整晶圆片，吸附效果好，通用性更强，提高了晶圆片的稳定性，提高了生产效率。

本发明授权一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘在权利要求书中公布了：1.一种可调节真空区域的晶圆测试承载盘，其特征在于，包括吸附载盘、底盘和真空调节滑杆，所述吸附载盘为圆形且其上分布有真空吸附孔用于吸附晶圆，吸附载盘底部中心区域掏空形成一圆形凹槽，圆形凹槽内设置有一环形隔断，该环形隔断将圆形凹槽分为两个空间，所述圆形凹槽中心与内壁之间固定设置有一纵向隔断，与环形隔断垂直； 所述底盘固定于吸附载盘底部，环形隔断内部与底盘之间形成腔室A，环形隔断外部与底盘之间形成腔室B，所述底盘内部设置有真空管道A和真空管道B，真空管道A一端与腔室A相通，另一端位于底盘侧壁，真空管道B的一端与腔室B相通，另一端也位于底盘侧壁，用于抽真空； 所述真空调节滑杆沿圆形凹槽的径向设置，并且能够沿圆形凹槽中心转动，用于调节其与纵向隔断之间的角度大小，吸附不完整的晶圆片和完整晶圆片； 所述真空调节滑杆包括固定连接在一起的滑杆、调节杆和转轴，所述调节杆和滑杆平行设置，且其一端均固定在转轴上，滑杆设置于底盘与吸附载盘之间，用于调节滑杆与纵向隔断之间的角度大小，调节杆设置于底盘外部，用于手动调节； 所述吸附载盘底部中心固定设置有一定位柱，转轴设置于定位柱上并能够沿定位柱转动，所述滑杆设置于吸附载盘底部的圆形凹槽内，且滑杆上设置有一滑动槽，用于与环形隔断相配合； 所述转轴底部贯穿底盘位于底盘下部，即转轴的底部连同调节杆位于底盘下部； 滑杆与纵向隔断之间的夹角初始时为30°，最大为360°，所述真空管道A和真空管道B始终位于滑杆与纵向隔断之间的空间内； 所述吸附载盘的真空吸附孔沿其中心径向成排分布，由中心向外扩散，每排真空吸附孔在一条直线上； 所述真空吸附孔贯穿吸附载盘的内外，所述真空吸附孔的上表面孔径为0.3mm，下表面孔径为3mm； 所述滑杆上部设置有密封条，与吸附载盘底部相接触，用于滑杆上部与吸附载盘之间的密封。

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