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中国科学院宁波材料技术与工程研究所;宁波杭州湾新材料研究院王跃忠获国家专利权

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龙图腾网获悉中国科学院宁波材料技术与工程研究所;宁波杭州湾新材料研究院申请的专利一种硅金刚石红外复合窗口材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116926499B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310857406.0,技术领域涉及:C23C16/27;该发明授权一种硅金刚石红外复合窗口材料及其制备方法是由王跃忠;朱彤;李莎莎;杨国永;江南设计研发完成,并于2023-07-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种硅金刚石红外复合窗口材料及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种硅金刚石红外复合窗口材料,包括光学硅和沉积在光学硅表面的金刚石薄膜,所述金刚石薄膜的厚度为80–120μm。该硅金刚石红外复合窗口材料具有加高的透过率和表面结合能力。本发明还提供了该硅金刚石红外复合窗口材料的制备方法,包括采用金刚石微粉悬浊液在光学硅上预处理5–10min,使得光学硅表面产生划痕;通过MPCVD微波等离子化学气相沉积方法,以CH4H2混合气体为反应气体,在温度为在800–950℃下,在步骤1得到的光学硅表面持续生长50–80h得到金刚石层,研磨抛光金刚石层得到硅金刚石红外复合窗口材料。

本发明授权一种硅金刚石红外复合窗口材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种硅金刚石红外复合窗口材料,其特征在于,包括光学硅片和沉积在光学硅片表面的金刚石薄膜,所述金刚石薄膜的厚度为80–120µm; 所述光学硅片和金刚石薄膜的应用波段均为3–5μm; 所述的硅金刚石红外复合窗口材料由包括以下步骤的制备方法制得: 1采用金刚石微粉悬浊液在光学硅片上预处理5–10min,使得光学硅片表面产生划痕; 2通过MPCVD方法,以CH4H2混合气体为反应气体,在温度为在800–950℃下,在步骤1得到的光学硅片表面持续生长50–80h得到金刚石层,研磨抛光金刚石层得到硅金刚石红外复合窗口材料。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所;宁波杭州湾新材料研究院,其通讯地址为:315201 浙江省宁波市镇海区中官西路1219号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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