东洋纺株式会社重野健斗获国家专利权
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龙图腾网获悉东洋纺株式会社申请的专利树脂片成型用脱模薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117087290B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311001091.6，技术领域涉及：B32B27/36；该发明授权树脂片成型用脱模薄膜是由重野健斗;柴田悠介;楠叶浩晃;中谷充晴设计研发完成，并于2021-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本树脂片成型用脱模薄膜在说明书摘要公布了：本发明涉及树脂片成型用脱模薄膜。本发明的目的在于，提供一种脱模薄膜，其通过制成具有平滑性和剥离性特别优异的脱模层的脱模薄膜，能够无缺陷地成型超薄层的树脂片、特别是超薄层的陶瓷坯片。一种树脂片成型用脱模薄膜，其具有作为基材的聚酯薄膜和脱模层，其中，聚酯薄膜具有实质上不含无机颗粒的表面层A，在表面层A上具有所述脱模层，脱模层为脱模层形成组合物固化而成的层，脱模层形成组合物包含阳离子固化型聚二甲基硅氧烷a，脱模层的区域表面平均粗糙度Sa为2nm以下，存在于脱模层表面的高度10nm以上的突起数为200个mm2以下。
本发明授权树脂片成型用脱模薄膜在权利要求书中公布了：1.一种树脂片成型用脱模薄膜，其具有作为基材的聚酯薄膜和脱模层， 所述聚酯薄膜具有实质上不含无机颗粒的表面层A， 在所述表面层A上具有所述脱模层， 所述脱模层为脱模层形成组合物固化而成的层， 所述脱模层形成组合物包含阳离子固化型聚二甲基硅氧烷a， 所述脱模层所含的阳离子固化型聚二甲基硅氧烷a的含量为50mgm2以下， 所述脱模层的区域表面平均粗糙度Sa为2nm以下， 存在于所述脱模层表面的高度10nm以上的突起数为200个mm2以下， 所述脱模层的膜厚小于0.050μm。
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