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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利掩模板颗粒的检测方法、检测装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117314824B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311054754.0，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权掩模板颗粒的检测方法、检测装置、电子设备及存储介质是由韩晓泉;吴晓斌;王魁波;沙鹏飞;谢婉露;罗艳;李慧;谭芳蕊设计研发完成，并于2023-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模板颗粒的检测方法、检测装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模板颗粒的检测方法、检测装置、电子设备及存储介质。该掩模板颗粒的检测方法包括：获取掩模板的多个原始局部图像；针对清洗后的掩模板进行图像获取，得到多个清洗后局部图像；分别对所有所述原始局部图像和所有所述清洗后局部图像执行拼接操作，得到整体原始图像和整体清洗图像；获取所述整体原始图像和所述整体清洗图像的差影图像；从所述差影图像的连通域中提取出掩模板颗粒的信息。本申请实施例提供的掩模板颗粒的检测方法，对掩模板颗粒的信息检测精度较高，检测时间耗时短，完全能够满足需要快速准确获取清洗前后掩模板颗粒状态的情况的需求。

本发明授权掩模板颗粒的检测方法、检测装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模板颗粒的检测方法，其特征在于，包括： 获取掩模板的多个原始局部图像； 针对清洗后的掩模板进行图像获取，得到多个清洗后局部图像； 分别对所有所述原始局部图像和所有所述清洗后局部图像执行拼接操作，得到整体原始图像和整体清洗图像； 获取所述整体原始图像和所述整体清洗图像的差影图像； 从所述差影图像的连通域中提取出掩模板颗粒的信息； 所述拼接操作包括：将相邻两个局部图像的重合区重叠在一起，使所述相邻两个局部图像合并为一体； 所述将相邻两个局部图像的重合区重叠在一起，使所述相邻两个局部图像合并为一体，包括： 针对存在重合区的相邻的第一局部图像和第二局部图像，从所述第一局部图像的重合区中选取一个图像块作为匹配区； 将所述匹配区在所述第二局部图像的重合区中进行滑动匹配，获取匹配度； 根据所述匹配度获取所述第一局部图像和所述第二局部图像的相对位移； 根据所述相对位移对所述第一局部图像和所述第二局部图像进行拼接； 所述将所述匹配区在所述第二局部图像的重合区中进行滑动匹配，获取匹配度，包括： 对所述匹配区和所述第二局部图像的重合区中的待匹配区域进行逐像素灰度作差计算，得到计算结果； 如果所述计算结果中存在灰度值差值大于预设灰度值阈值的像素，则跳过所述待匹配区域，转向对所述匹配区和所述第二局部图像的重合区中的下一个待匹配区域进行逐像素灰度作差计算； 如果所述计算结果中不存在灰度值差值大于预设灰度值阈值的像素，则计算所述匹配区和所述待匹配区域的标准差，若最小标准差小于或等于预设标准差阈值，则取所述最小标准差所对应的待匹配区域作为匹配结果； 如果查找到的最小标准差大于预设标准差阈值，则增大所述预设灰度值阈值或预设标准差阈值，转向所述对所述匹配区和所述第二局部图像的重合区中的待匹配区域进行逐像素灰度作差计算。

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