万桦(常州)新材料科技有限公司傅一非获国家专利权
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龙图腾网获悉万桦(常州)新材料科技有限公司申请的专利一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117325089B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311521959.5，技术领域涉及：B24D11/00；该发明授权一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法是由傅一非;苏明;王志华;李静;袁栋设计研发完成，并于2023-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法，涉及CMP抛光垫的技术领域。该方法包括如下步骤：将无纺布抛光革在含二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺的溶剂中浸没10‑30min后，清洗无纺布抛光革，得到微孔无纺布；在1.2‑1.8MPa的印刷压力下，向微孔无纺布的表面印刷填充浆料，填充浆料完全覆盖微孔无纺布的表面，干燥后，即得到CMP抛光垫。本申请的方法制备的CMP抛光垫不仅获得更加致密的表面，还能降低柔软度，有助于减少划伤被抛光件的表面，提高被抛光件的表面光滑性和平坦性，从而提高CMP抛光垫的抛光效果和抛光效率。
本发明授权一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法在权利要求书中公布了：1.一种改善CMP抛光垫打磨性能的方法，其特征在于，包括如下步骤： 表面处理：将无纺布抛光革在含二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺的溶剂中浸没10-30min后，清洗无纺布抛光革，得到微孔无纺布； 印刷处理：在1.2-1.8MPa的印刷压力下，向微孔无纺布的表面印刷填充浆料，填充浆料完全覆盖微孔无纺布的表面，干燥后，即得到CMP抛光垫；所述填充浆料包括如下重量百分比的组分：醇溶剂45-55%，聚氨酯树脂40-50%，蓖麻油0.1-0.3%，抛光粉0.1-0.3%，白炭黑0.1-0.3%。
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