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龙图腾网获悉北京大学申请的专利一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料及其制备和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118002095B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410179591.7，技术领域涉及：B01J20/26；该发明授权一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料及其制备和应用是由赵美萍;张芮兰;解怀萱设计研发完成，并于2024-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料及其制备和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料及其制备和应用。首先将亲和素共价修饰在磁纳米颗粒表面，然后结合生物素达到饱和状态，再加入模板分子APE1进行结合和固定，之后加入苯硼酸衍生物进行修饰，再加入多巴胺进行原位聚合和表面印迹，接着使用两种不同分子量的mPEG‑NH2对表面进行双封闭，最后除去模板分子，得到APE1的磁性纳米印迹材料。该磁性纳米印迹材料对APE1的亲和力和特异性以及抗干扰能力相对于现有方法具有突破性进步，可以简便、快速地从复杂的生物样品包括但不限于活细胞、细胞提取物、外泌体提取物等中获得高纯度的APE1蛋白，实现了活细胞内APE1的原位捕获和分离纯化，有助于对活细胞内APE1的结构变化和功能调控开展细致深入的研究。

本发明授权一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料及其制备和应用在权利要求书中公布了：1.一种脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料，由内向外依次包括磁核、二氧化硅层、亲和素层、聚多巴胺层和PEG双封闭层，其特征在于，所述亲和素层由结合生物素达到饱和并经苯硼酸衍生物修饰的亲和素组成，所述聚多巴胺层中具有脱碱基核酸内切酶的印迹，所述PEG双封闭层由两种不同分子量的氨基修饰的甲氧基聚乙二醇组成；该脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料通过下述方法制备得到：先在包覆磁核的二氧化硅层表面共价连接上亲和素，然后加入生物素使亲和素的四个亚基完全转化为生物素结合态；移去多余的生物素分子后，加入模板分子APE1进行结合和固定；之后加入苯硼酸衍生物对亲和素表面的糖基进行修饰并与APE1表面的氨基酸进行预组装；然后在外层进行多巴胺聚合反应，再在聚多巴胺的表面分步在最外层进行先大分子量15~30k的氨基修饰的甲氧基聚乙二醇、后小分子量1.5~3k的氨基修饰的甲氧基聚乙二醇的封闭修饰；最后洗脱模板分子APE1，得到所述脱碱基核酸内切酶磁性纳米印迹材料。

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