上海交通大学路庆华获国家专利权
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龙图腾网获悉上海交通大学申请的专利光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118852619B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410768518.3，技术领域涉及：C08G73/10；该发明授权光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶是由路庆华;李珍设计研发完成，并于2024-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶在说明书摘要公布了：本申请公开一种光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶，所述光敏聚合物的结构式包括如下式I所示的第一结构单元：在所述式I中，m为1～1000的整数；Ar1的结构式为R1～R5独立地选自氢、甲基、二甲基；Ar3为去除二酐单体的结构式中的两个酸酐基团后剩余的基团；R为去除醇类物质的结构式中的醇羟基的氢原子后剩余的基团。本申请所述的光敏聚合物能够低温固化，同时还兼具良好的光刻性能、力学性能、介电性能、热学性能以及耐化学药品性能。
本发明授权光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶在权利要求书中公布了：1.一种光敏聚合物，其特征在于，其结构式包括如下式I所示的第一结构单元： ； 在所述式I中，m为1~1000的整数； Ar3为去除二酐单体的结构式中的两个酸酐基团后剩余的基团； R为去除醇类物质的结构式中的醇羟基的氢原子后剩余的基团； 所述Ar1的结构式选自如下结构： 、、、。
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