北京北方华创微电子装备有限公司黄敏涛获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备及其密封门机构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119560414B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411748692.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权半导体工艺设备及其密封门机构是由黄敏涛;杨帅;常江设计研发完成，并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺设备及其密封门机构在说明书摘要公布了：本申请公开一种半导体工艺设备及其密封门机构，属于半导体技术领域。密封门机构用于密封半导体工艺设备的工艺腔室的第一开口，密封门机构包括密封盘、密封件以及隔离垫，密封盘用于封闭工艺腔室的第一开口，隔热板设置于密封盘的上表面，密封盘与隔热板之间设有吹扫间隙，且隔热板设有第二开口，第二开口与吹扫间隙连通。半导体工艺设备包括上述的密封门机构以及工艺腔室，工艺腔室设有第一开口，密封门机构用于密封第一开口。如此设置，利用密封门机构密封工艺腔室的第一开口，在吹扫状态下，工艺腔室内无晶舟存在，晶舟不会影响吹扫气体的流速以及吹扫均匀度，实现无死角吹扫过程，有利于提升吹扫效果以及吹扫效率。
本发明授权半导体工艺设备及其密封门机构在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备的密封门机构，用于密封所述半导体工艺设备的工艺腔室20的第一开口21，其特征在于，所述密封门机构10包括密封盘100以及隔热板400，所述密封盘100用于封闭所述工艺腔室20的第一开口21，所述隔热板400设置于所述密封盘100的上表面，所述密封盘100与所述隔热板400之间设有吹扫间隙400b，且所述隔热板400设有第二开口400a，所述第二开口400a与所述吹扫间隙400b连通。
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