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龙图腾网获悉杭州中欣晶圆半导体股份有限公司申请的专利抛光垫更换及修布的工艺方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119609913B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411788739.3，技术领域涉及：B24B37/20；该发明授权抛光垫更换及修布的工艺方法是由黄明洋;李鹏设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光垫更换及修布的工艺方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抛光垫更换及修布的工艺方法，所属硅片加工设备技术领域，包括如下操作步骤：第一步：对定盘进行全面清洁。第二步：将抛光垫平整的贴合到定盘表面。第三步：将定盘转速调制30rpm，用特氟龙压杆由定盘中心逐渐向外沿压熨抛光布。第四步：使用美工刀割除边缘多余的抛光垫。第五步：贴好的抛光垫需要进行预处理才能进行抛光作业。第六步：用圆盘刷水刷15min，最后高压水冲洗2遍。第七步：进行抛光垫最终抛光并进行刷洗。第八步：贴布和修布完成，进行硅片的抛光作业。具有操作便捷、效果好和运行可靠性高的优点。决抛光面异常问题，达到改善抛光面质量的效果。

本发明授权抛光垫更换及修布的工艺方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫更换及修布的工艺方法，其特征在于包括如下操作步骤： 第一步：对定盘进行全面清洁，然后冲水3min，用无尘布擦拭干净，然后用异丙醇再次擦拭定盘，直到定盘完全干燥； 第二步：将抛光垫平整的贴合到定盘表面，不可用力拉扯； 抛光垫由一侧开始粘贴，然后使用特氟龙圆棒逐渐向另一侧滚过，直至另外一侧完全粘牢，抛光垫和定盘之间不能出现气泡； 第三步：将定盘转速调制30rpm，用特氟龙压杆由定盘中心逐渐向外沿压熨抛光布；定盘旋转用特氟龙压杆的同时喷洒适量超纯水，纯水流量为7Lmin，纯水流量误差为±1Lmin； 第四步：使用美工刀割除边缘多余的抛光垫； 第五步：贴好的抛光垫需要进行预处理才能进行抛光作业，对于粗抛垫，先使用高压纯水刷洗3遍，然后使用金刚刷盘修布5min，转速30rpm； 第六步：用圆盘刷水刷15min，最后高压水冲洗2遍； 第七步：进行抛光垫最终抛光并进行刷洗；抛光垫最终抛光，为使抛光垫润湿，使用TSC-1溶液手动刷布5min； 第八步：贴布和修布完成，进行硅片的抛光作业。

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