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龙图腾网获悉武汉瑞普赛技术有限公司申请的专利一种配向膜印刷版制造用压花膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119620547B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510049289.4，技术领域涉及：G03F7/12；该发明授权一种配向膜印刷版制造用压花膜及其制备方法是由冯玉璞;刘瑞林;申阳;罗义万;石莹;郑思瑶设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种配向膜印刷版制造用压花膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种配向膜印刷版制造用压花膜及其制备方法，压花膜包括从上至下依次设置的保护膜层、微结构图案层、底涂层、PET基膜层，微结构图案层为有机硅涂层及涂层表面压花形成的微米级规整排布图案。制备方法包括：将聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶涂布于经表面处理的PET基膜上，经曝光、显影、坚膜后，制得带有“平顶凸台网点”的软膜；将光固化有机硅树脂涂布于PET基膜层的上表面，通过平顶凸台网点模具复制结构至有机硅树脂上，固化，形成微结构图案层；微结构图案层表面覆合一层保护膜层。本发明解决了由压花膜涂层材料带来的脱模问题，及微结构图案加工精度低等技术难题，提升了配向膜印刷版的加工精度和加工质量。

本发明授权一种配向膜印刷版制造用压花膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种配向膜印刷版制造用压花膜，其特征在于，包括从上至下依次设置的保护膜层、微结构图案层、底涂层、PET基膜层，其中，所述微结构图案层为有机硅涂层及涂层表面压花形成的微米级规整排布图案； 所述保护膜层为聚乙烯材质，厚度为20-50μm；所述微结构图案层由有机硅树脂固化成型，厚度为30-100μm；所述底涂层由水性聚氨酯涂布而成，厚度为0.5-3μm；所述PET基膜层厚度为100-300μm；所述微结构图案层包含的有机硅树脂包括以下重量份数的原料：有机硅丙烯酸酯预聚体50-90份，活性稀释剂0-30份，光引发剂1-5份，流平剂0.5-2份，消泡剂0.1-1份； 所述微结构图案层上的图案通过带有平顶凸台网点的软膜印在压花膜上表面形成规整图案，所述软膜表面平顶凸台高度为5-30μm；平顶凸台直径为5-50μm，所述微结构图案层上的图案排布线数为200-900； 所述软膜是由聚乙烯醇肉桂酸酯负性光刻胶和其下层软质片材制成，软质片材为金属片材或高分子薄膜。

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