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龙图腾网获悉北京化工大学申请的专利共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120040731B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510357703.8，技术领域涉及：C08G61/12；该发明授权共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用是由陈巧梅;段猛;高子豪;李韦伟设计研发完成，并于2025-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及光电技术领域，公开了一种共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用。在第一溶剂和第一催化剂存在下，使4,8‑双5‑2‑乙基己基‑4‑氟噻吩基苯并[1,2‑b:4,5‑b']二噻吩基双三甲基锡基、1,3‑二5‑溴噻吩‑2‑基‑5,7‑双2‑乙基己基苯并[1,2‑C:4,5‑C']二噻吩‑4,8‑二酮和式I所示的单体发生三元共聚反应，得到三元共轭聚合物；将得到的三元共轭聚合物、第二溶剂、交联剂和第二催化剂共混后成膜，进行退火得到所述共轭聚合物薄膜。所述共轭聚合物薄膜可作为光吸收层用于制备有机电子器件。通过本发明方法得到的共轭聚合物薄膜在保证光电性能的基础上，机械性能得到显著提升；本发明采用原位交联策略，保证溶液加工性能，操作简单，聚合物结构可控性和批次重复性高；

本发明授权共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种共轭聚合物薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 1在第一溶剂和第一催化剂存在下，使4,8-双5-2-乙基己基-4-氟噻吩基苯并[1,2-b:4,5-b']二噻吩基双三甲基锡基、1,3-二5-溴噻吩-2-基-5,7-双2-乙基己基苯并[1,2-C:4,5-C']二噻吩-4,8-二酮和式I所示的单体发生三元共聚反应，得到三元共轭聚合物；其中，4,8-双5-2-乙基己基-4-氟噻吩基苯并[1,2-b:4,5-b']二噻吩基双三甲基锡基、1,3-二5-溴噻吩-2-基-5,7-双2-乙基己基苯并[1,2-C:4,5-C']二噻吩-4,8-二酮和式I所示的单体的摩尔比为1:0.8-0.95:0.05-0.2； 2将步骤1得到的三元共轭聚合物、第二溶剂、交联剂和第二催化剂共混后成膜，进行退火得到所述共轭聚合物薄膜；其中，所述交联剂选自六亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体、L-赖氨酸三异氰酸酯和二苯基甲烷二异氰酸酯中的至少一种； 式I。

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