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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120103682B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510246443.7，技术领域涉及：G03H1/02；该发明授权一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法是由邱阳;张开宇;胡挺;钟其泽;董渊;赵兴岩;郑少南设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法，涉及微纳制造技术领域。所述超表面全息图包括：基于纳米压印技术，由x方向和y方向周期均为450nm、高度均为800nm的超原子阵列构成；在所述超原子阵列中，所有超原子均为长方体柱状结构，且主体由掺有二氧化钛纳米颗粒的聚合物构成；各所述超原子的尺寸和位置根据GS算法确定；所述GS算法用于计算目标图像在对应波长偏振光下的相位信息；所述波长偏振光包括532nm的X偏振光和671nm的Y偏振光。本发明能够解决传统超表面器件制造工艺周期长、规模小、成本高等问题，并且为基于超表面全息术的多色成像技术提供新的开发思路。

本发明授权一种可见光双波长偏振复用超表面全息图及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种可见光双波长偏振复用超表面全息图，其特征在于，包括：基于纳米压印技术，由x方向和y方向周期均为450nm、高度均为800nm的超原子阵列构成；在所述超原子阵列中，所有超原子均为长方体柱状结构，且主体由掺有二氧化钛纳米颗粒的聚合物构成；各所述超原子的尺寸和位置根据GS算法确定；所述GS算法用于计算目标图像在对应波长偏振光下的相位信息；所述波长偏振光包括532nm的X偏振光和671nm的Y偏振光； 可见光双波长偏振复用超表面全息图的制备方法包括： 对硅衬底进行刻蚀，得到超表面全息图硅母模； 对所述硅母模进行表面氟化处理； 在氟化处理后的硅母模上依次旋涂并固化hPDMS和PDMS，并对完全固化后的硅母模和PDMS子模进行分离，得到对应的负性结构子模； 将压印胶旋涂于子模上，随后将两者倒扣于支撑基板上，接着在硅母模顶部施加向下的压力，同时进行紫外光固化；所述压印胶为掺有二氧化钛纳米颗粒的聚合物；所述支撑基板采用玻璃衬底； 剥离子模，得到与硅母模结构相同的复制品，完成可见光双波长偏振复用超表面全息图的制备。

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