武汉简一科技有限公司胡保明获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉简一科技有限公司申请的专利一种高功率辐射制冷膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120735376B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510920054.8，技术领域涉及：B29D7/01；该发明授权一种高功率辐射制冷膜及其制备方法是由胡保明;于勇飞;孙志群设计研发完成，并于2025-07-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高功率辐射制冷膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高功率辐射制冷膜及其制备方法，涉及制冷膜材料技术领域，具体涉及专利分类号F25B2300。制备方法包括以下步骤：提供基膜，进行预处理，采用磁控溅射在预处理基膜上交替沉积TiO2和SiO2层形成反射层，在反射层上通过胶粘剂结合发射层，将上述膜层进行热压贴合，即得。本发明反射层材料采用聚偏氟乙烯与氮化硼复合粒子混合，制备得到的制冷膜具有高功率红外辐射性能。
本发明授权一种高功率辐射制冷膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高功率辐射制冷膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、提供基膜，进行预处理； S2、采用磁控溅射在预处理基膜上交替沉积TiO2和SiO2层形成反射层； S3、在反射层上通过胶粘剂结合发射层； S4、将上述膜层进行热压贴合，即得； 所述，发射层材料由聚偏氟乙烯和改性纳米氮化硼复合粒子组成； 纳米氮化硼复合粒子的制备方法包括以下步骤： A1、对氮化硼纳米片进行干燥预处理； A2、制备锌盐和2-甲基咪唑的混合溶液； A3、将预处理后的氮化硼纳米片加入上述混合溶液中，加热反应，经过后处理，即得； 改性纳米氮化硼复合粒子制备： 以纳米氮化硼复合粒子、硝酸锌为原料，通过水热法在氮化硼复合粒子表面结合ZnO纳米针，得到复合粒子中间体； 再将复合粒子中间体表面接枝氨基硅烷偶联剂，即得。
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