华芯程(杭州)科技有限公司;华芯程(上海)工业软件有限公司请求不公布姓名获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司;华芯程(上海)工业软件有限公司申请的专利一种光学邻近校正方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121142924B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511678316.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光学邻近校正方法及装置是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学邻近校正方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收晶片表面形貌图案、目标晶片图案及照射光强；将所述晶片表面形貌图案与预设的名义光刻胶厚度，输入预训练的光刻胶厚度分布模型，得到对应的光刻胶厚度分布；根据所述光刻胶厚度分布计算反射率分布；通过所述照射光强与当前掩膜图案，计算得到入射光强分布；根据所述反射率分布与所述入射光强分布计算光学图像分布；对所述光学图像分布进行光刻胶图形修正，得到光刻胶图像；计算所述光刻胶图像对应所述目标晶片图案的边缘放置误差；根据所述边缘放置误差，对所述当前掩膜图案的边缘段进行修正。本发明提升了最终得到的光刻胶图像的准确度与精度。
本发明授权一种光学邻近校正方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括： 接收晶片表面形貌图案、目标晶片图案及照射光强； 将所述晶片表面形貌图案与预设的名义光刻胶厚度，输入预训练的光刻胶厚度分布模型，得到对应的光刻胶厚度分布； 根据所述光刻胶厚度分布计算反射率分布； 通过所述照射光强与当前掩膜图案，计算得到入射光强分布；初始的当前掩膜图案与所述目标晶片图案相同；所述当前掩膜图案包括多个边缘段； 根据所述反射率分布与所述入射光强分布计算光学图像分布； 对所述光学图像分布进行光刻胶图形修正，得到光刻胶图像； 计算所述光刻胶图像对应所述目标晶片图案的边缘放置误差； 根据所述边缘放置误差，对所述当前掩膜图案的边缘段进行修正。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司;华芯程(上海)工业软件有限公司，其通讯地址为：311113 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励