广州市艾佛光通科技有限公司李国强获国家专利权
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龙图腾网获悉广州市艾佛光通科技有限公司申请的专利一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121487548B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610016480.3，技术领域涉及：H10P72/50；该发明授权一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质是由李国强;衣新燕;孙寿鹏设计研发完成，并于2026-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供了一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质，涉及半导体制造技术领域。该方法包括步骤：接收反射光信号并通过分析获取晶圆正反两面的局部Z轴高度信息；根据局部Z轴高度信息，控制上下两个光学物镜轴向移动；在光学焦点平面调整完成后，获取包含晶圆正反两面对位标记的区域图像，并识别区域图像中对位标记的几何中心坐标；根据对位标记的几何中心坐标，计算晶圆正反面之间的对位偏差；根据对位偏差，控制工作台移动或旋转以补偿偏差。本发明的方法旨在解决晶圆正反面图形实际对准误差的技术问题，能够显著提高对位标记的识别精度，从而实现晶圆正反面图形的精确对准，克服了传统方法在应对晶圆形貌变化时的局限性。
本发明授权一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种双面曝光晶圆定位方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.控制双视野光学系统分别向上部光学通道和下部光学通道发射探测光束，并接收各自反射光的反射光信号； S2.通过分析反射光信号，获取晶圆正反两面的局部Z轴高度信息； S3.根据局部Z轴高度信息，控制上下两个光学物镜轴向移动，以将各自的光学焦点平面调整至对应的指定Z轴高度，使得每个光学物镜的光学焦点平面与晶圆正反两面上待观测的对位标记所在的垂直高度位置精确重合； S4.在光学焦点平面调整完成后，获取包含晶圆正反两面对位标记的区域图像，并识别区域图像中对位标记的几何中心坐标； S5.根据对位标记的几何中心坐标，计算晶圆正反面之间的对位偏差； S6.根据对位偏差，控制工作台移动或旋转以补偿偏差。
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