台湾积体电路制造股份有限公司林圣达获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利光刻系统及其清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112305869B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010572938.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻系统及其清洁方法是由林圣达;陈立锐;简上杰设计研发完成，并于2020-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻系统及其清洁方法在说明书摘要公布了：提供一种光刻系统及其清除方法。光刻系统包含光源产生器。光源产生器包含反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对，且安置在环绕反射镜的区域处。清洁方法包含：经由光源产生器的装载埠将液滴产生器移出光源产生器；经由相同装载埠将铲总成插入到光源产生器中；使用附接到铲总成的管道镜来辨识由液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置；使用铲总成来移除和收集沉积物；以及经由装载埠将铲总成与管道镜一起从光源产生器中撤出。
本发明授权光刻系统及其清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻系统的清洁方法，其中所述光刻系统包括光源产生器，所述光源产生器包括反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器，所述液滴产生器和所述液滴捕集器彼此面对且安置在环绕所述反射镜的区域处，且所述光刻系统的所述清洁方法包括： 经由所述光源产生器的装载埠将所述液滴产生器移出所述光源产生器； 经由所述装载埠将铲总成插入到所述光源产生器中； 使用附接到所述铲总成的管道镜来辨识由所述液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置，其中所述铲总成包括控制杆、连接到所述控制杆的铲以及加热装置，所述加热装置附接到所述控制杆； 移动所述控制杆、所述铲以及所述加热装置使所述加热装置接近所述沉积物，通过所述加热装置熔化或软化待移除的所述沉积物； 在所述沉积物经熔化或软化的情况下使用所述铲总成来移除并收集所述沉积物，且所述铲经配置成接触所述沉积物；以及 经由所述装载埠将所述铲总成与所述管道镜一起从所述光源产生器中撤出。
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