东京毅力科创株式会社甲斐亚希子获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理方法和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112786484B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011136919.5，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权基片处理方法和基片处理装置是由甲斐亚希子设计研发完成，并于2020-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理方法和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理方法和基片处理装置。处理液浸曝光后的、表面具有未形成图案的抗蚀剂膜的基片的基片处理方法和基片处理装置中，与处理前的基片表面的接触角的大小无关地，能够使得用于液浸曝光的水、清洗液在处理后不残留在基片的表面。基片处理方法包括：对液浸曝光处理后的、具有未形成图案的抗蚀剂膜的基片的表面，供给水溶性聚合物的溶液的工序；用供给的水溶性聚合物的溶液，使抗蚀剂膜的表面亲水化的工序；在亲水化的工序后，一边使基片旋转，一边对基片的表面供给清洗液，将对亲水化没有贡献的水溶性聚合物的水溶液除去的工序；和使被供给了清洗液的基片干燥的工序，水溶性聚合物的溶液具有使抗蚀剂膜的酸的浓度处于容许范围内的pH值。
本发明授权基片处理方法和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理方法，其特征在于，包括： 对液浸曝光处理后且在所述液浸曝光处理与显影处理之间进行的曝光后热处理前的、具有未形成图案的抗蚀剂膜的基片的表面，供给水溶性聚合物的溶液的工序； 用供给的所述水溶性聚合物的溶液，使所述抗蚀剂膜的表面亲水化的工序； 在所述亲水化的工序后，一边使所述基片旋转，一边对该基片的表面供给清洗液，将对亲水化没有贡献的水溶性聚合物的水溶液除去的工序；和 使被供给了所述清洗液的所述基片干燥的工序， 所述抗蚀剂膜含有光致酸产生剂， 所述水溶性聚合物的溶液具有5～9的pH值，以使所述液浸曝光处理后且所述曝光后热处理前的所述基片上的、未形成图案且含有所述光致酸产生剂的抗蚀剂膜的酸的浓度处于容许范围内。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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