佳能株式会社高田大树获国家专利权
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龙图腾网获悉佳能株式会社申请的专利制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113848680B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110689013.4，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件是由高田大树;须田广美设计研发完成，并于2021-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件在说明书摘要公布了：本发明提供制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件。该制造方法的特征在于：具有在上述光学元件的表面形成防反射膜的第1工序和将在上述第1工序形成的上述防反射膜在上述防反射膜的厚度方向除去的第2工序，在上述第2工序中，将上述防反射膜在上述厚度方向除去，以便即使在上述防反射膜被除去的区域也残留有上述防反射膜的至少一部分。
本发明授权制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件在权利要求书中公布了：1.一种制造光透过型的光学元件的制造方法，上述光学元件被组装至对被照明面进行照明的照明光学系统，其特征在于， 上述制造方法具有： 在上述光学元件的表面形成通过重叠折射率彼此不同的多个薄膜而成的光学薄膜的工序； 取得形成在上述被照明面上的照度分布的工序； 基于取得的上述照度分布来设计上述光学薄膜的光透过率分布的工序； 根据上述光透过率分布来确定上述光学元件的表面内应将上述光学薄膜除去的部分以及该部分中的上述光学薄膜的除去量的工序；以及 对形成在上述光学元件的表面的上述光学薄膜在上述光学薄膜的厚度方向以上述除去量进行除去，以便在应除去的上述部分残留有上述光学薄膜的一部分的工序。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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