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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114462284B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210163834.9，技术领域涉及：G06F30/23；该发明授权一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置是由刘建云;陈岚;曹鹤;孙艳设计研发完成，并于2022-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置，获取待测氧化镓衬底远离抛光垫的一面的均布载荷，将均布载荷输入有限元模型，获得待测氧化镓衬底与抛光垫之间的接触压力，根据接触压力、研磨粒子的浓度、待测氧化镓衬底的硬度、研磨粒子的直径、研磨系数、研磨转速、研磨时间、氧化镓衬底的面积计算得到待测氧化镓衬底的研磨去除率，根据氧化镓衬底的研磨去除率、氧化镓衬底的各部分的原高度和氧化镓衬底研磨后的平均高度计算得到氧化镓衬底表面的算术平均粗糙度。从而实现了对氧化镓衬底表面研磨形貌的预测，根据预测结果可及时调整以指导实际研磨工艺，降低工艺试错成本，得到平坦性较好的表面，减少浪费，缩短从设计到制造的周期。

本发明授权一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法，其特征在于，包括： 获取待测氧化镓衬底远离抛光垫的一面的均布载荷； 将所述均布载荷输入预先训练的有限元模型，获得所述待测氧化镓衬底与所述抛光垫之间的接触压力； 根据所述接触压力、研磨粒子的浓度、所述待测氧化镓衬底的硬度、所述研磨粒子的直径、研磨系数、研磨转速、研磨时间和所述待测氧化镓衬底的面积计算得到所述待测氧化镓衬底的研磨去除率； 根据所述氧化镓衬底的研磨去除率、所述氧化镓衬底的各个部分的原高度和所述氧化镓衬底研磨后的平均高度计算得到所述氧化镓衬底表面的算术平均粗糙度； 所述根据所述接触压力、研磨粒子的浓度、所述氧化镓衬底的硬度、所述研磨粒子的直径、研磨系数、研磨转速、研磨时间和所述待测氧化镓衬底的面积计算得到所述待测氧化镓衬底的研磨去除率，包括： 根据所述待测氧化镓衬底的面积、所述研磨粒子的浓度和所述研磨粒子的直径计算得到有效研磨粒子数量； 根据所述接触压力、所述待测氧化镓衬底的面积和所述有效研磨粒子数量计算得到单个研磨粒子的受力； 根据所述受力、所述待测氧化镓衬底的硬度和所述研磨粒子的直径计算得到所述研磨粒子在所述待测氧化镓衬底表面的压入深度； 根据所述压入深度、所述研磨系数、所述研磨转速、所述研磨时间和所述研磨粒子的直径计算得到所述单个研磨粒子的去除量； 根据所述有效研磨粒子数量、所述单个研磨粒子的去除量和所述待测氧化镓衬底的面积计算得到所述待测氧化镓衬底的研磨去除率。

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