ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司A·E·A·科伦获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司申请的专利用于过滤图像的方法和相关联的量测设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114667446B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080065378.3,技术领域涉及:G01N21/95;该发明授权用于过滤图像的方法和相关联的量测设备是由A·E·A·科伦;J·克鲁泽;N·梅塔;帕特里克·华纳;V·T·滕纳;P·A·J·廷尼曼斯;H·克拉莫设计研发完成,并于2020-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于过滤图像的方法和相关联的量测设备在说明书摘要公布了:披露了一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法。所述方法包括:接收表示由所述区域所散射的辐射的一部分的辐射信息;以及在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分,以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息,其中所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。
本发明授权用于过滤图像的方法和相关联的量测设备在权利要求书中公布了:1.一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法,所述方法包括 -在图像平面处接收表示由所述区域所散射的所述目标结构和非目标结构暗场衍射辐射的至少一部分的辐射信息, -在光瞳平面或傅里叶域中转换所接收的辐射信息,-在所述光瞳平面或傅里叶域中使用滤波器以移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分,来获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息, 其中,所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息, -将经滤波的辐射信息转换成图像数据,以及 -使用所述图像数据以调节半导体过程的关注的参数。
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