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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利量测方法和用于测量衬底上的周期性结构的装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115004113B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180011634.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权量测方法和用于测量衬底上的周期性结构的装置是由P·A·J·廷尼曼斯;帕特里克·华纳;V·T·滕纳;H·A·J·克瑞姆;B·A·G·洛马士;B·L·W·M·范德文;A·B·昆布尔;A·P·康宁贝格设计研发完成，并于2021-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本量测方法和用于测量衬底上的周期性结构的装置在说明书摘要公布了：披露了一种利用具有至少一个波长的照射辐射来测量衬底上的周期性结构的方法，所述周期性结构具有至少一个间距。所述方法包括基于所述间距与所述波长的比率来配置成下各项中的一个或更多个：照射孔轮廓，所述照射孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个照射区；用于测量的所述周期性结构的取向；以及检测孔轮廓，所述检测孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个分离的检测区。这种配置使得：i在所述检测孔轮廓内捕获至少一对互补衍射阶的衍射辐射，和ii所述衍射辐射填充所述一个或更多个分离的检测区的至少80％。所述周期性结构被测量，而同时应用照射孔轮廓、检测孔轮廓和所述周期性结构的取向中的经配置的一个或更多个。

本发明授权量测方法和用于测量衬底上的周期性结构的装置在权利要求书中公布了：1.一种利用具有至少一个波长的照射辐射来测量衬底上的周期性结构的方法，所述周期性结构具有至少一个间距，所述方法包括： -基于所述间距与所述波长的比率来配置下各项中的一个或更多个： 照射孔轮廓，所述照射孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个照射区； 用于测量的所述周期性结构的取向；以及 检测孔轮廓，所述检测孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个分离的检测区； 使得：i在所述检测孔轮廓内捕获至少一对互补衍射阶的衍射辐射，和ii所述衍射辐射填充所述一个或更多个分离的检测区的至少80%；和 -在应用照射孔轮廓、检测孔轮廓和所述周期性结构的取向中的经配置的一个或更多个的同时，测量所述周期性结构， 其中所述一个或更多个照射区与所述一个或更多个分离的检测区在所述傅里叶空间中分离开；并且 其中所述一个或更多个照射区与所述一个或更多个分离的检测区相比更大。

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